中科院研发的5纳米超高精度激光光刻加工方法的主要用途是制作光掩模，这是集成电路光刻制造中不可缺少的一个部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。

但是，即便这一技术实现商用化，要突破荷兰ASML(阿斯麦)在光刻机上的垄断，还有很多核心技术需要突破，例如镜头的数值孔径、光源的波长等。